姓 名

刘忠伟

出生年

1973

最后学历

研究生

最后学位

博士

技术职称

教授

导师类别

硕士导师

电话

010-60261109

Email

liuzhongwei@bigc.edu.cn

所属学科

材料科学与工程

研究方向

低温等离子体功能材料沉积（等离子体增强化学气相沉积/原子层沉积），等离子体诊断

工作经历

2008.7至今，北京印刷学院，讲师、副教授、教授；

1996.7-2001.5，济南双利达集团。

2018.8-2019.1，俄亥俄州立大学机械工程学院，访问学者；

2012.11-2013.5，哈佛大学化学与生物化学系，访问学者。

教育经历

2001.9-2008.7，在大连理工大学应用化学专业，硕博连读，获博士学位。

1992.9-1996.7，就读于山东轻工业学院化学系，获学士学位。

获奖、荣誉称号

2009年入选北京市委组织部“优秀人才”培养计划；

2014年当选北京市属高等学校高层次人才引进与培养—青年拔尖人才培育计划。

中国电工技术学会等离子体及应用专业委员会、中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会、中国真空学会薄膜专业委员会委员与中国环境科学学会绿色包装委员会委员。

科研项目

近五年所主持代表性项目：

1、 等离子体辅助原子层沉积碳化镍及其热分解制备石墨烯互连材料的研究，国家自然科学基金面上项目，2021.01-2024.12，63万；

2、 等离子体增强原子层沉积制备碳化镍薄膜及其电化学析氢性能的研究，北京市自然科学基金-市教委联合项目, 2020.1-2022.12, 80万；

3、 螺旋波等离子体辅助原子层沉积制备铜镍双金属催化材料的研究，国家自然科学基金面上项目，2018.01-2021.12，58万；

4、 等离子体辅助原子层沉积铜籽晶层及其沉积机理研究，北京市自然科学基金面上项目， 2016.01-2018.12，18万；

5、 化学气相沉积技术制备石墨烯互联材料的研究，北京印刷学院校级项目，2020.9-2021.12, 36万；

6、真空气相沉积技术在柔性材料中的应用，横向课题，2017.6.20-2022.6.20，60万元。

科研与教改论文

近五年代表性论文：

1. Sen Chen, Xiangyu Zhang, Bowen Liu, and Zhongwei   Liu, Pulsed Chemical Vapor Deposition of Cobalt and Cobalt Carbide Thin   Films, Journal of Vacuum Science & Technology A, 2022, 40(2): 023401.

2. Xu Tian, Xiangyu Zhang, Yulian Hu, Bowen Liu, Yuxia   Yuan, Lizhen Yang, Qiang Chen, and Zhongwei Liu, Fabrication of iron carbide   by plasma-enhanced atomic layer deposition, Journal of Materials Research,   2020, 35: 813-821

3. Qipeng Fan, Zheng Guo, Zhuangzhi Li, Zhengduo Wang,   Lizhen Yang, Qiang Chen, Zhongwei Liu,* and Xinwei Wang*, Atomic Layer   Deposition of Cobalt Carbide from an Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma,   ACS Applied Electronic Materials, 2019, 1(3): 444-453

4. Qipeng Fan, Lijun Sang, Derong Jiang, Lizhen Yang,   Haibao Zhang, Qiang Chen and Zhongwei Liu*, Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition   of Cobalt Nitride with Cobalt Amidinate, Journal of Vacuum Science &   Technology A, 2019, 37: 010904

5. Yulian Hu, Xu Tian, Qipeng Fan, Zhengduo Wang, Bowen   Liu, Linzhen Yang and Zhongwei Liu* Fabrication and characterization of iron   and iron carbide thin films by plasma enhanced pulsed chemical vapor   deposition, Plasma Science and Technology, 2019, 21(10): 10552

6. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi, Lijun Sang, Bo Gao,   Qiang Chen, Zhongwei Liu*,   Xinwei Wang*, Fabrication of nickel and   nickel carbide thin films by pulsed chemical vapor deposition, MRS   Communications, 2018, 8: 88-94

7. QunGuo, Zheng Guo, Jianmin Shi, Wei Xiong, Haibao   Zhang, Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of   Nickel Carbide from a Nickel Amidinate Precursor and Hydrogen Plasma, ACS   Applied Materials & Interfaces, 2018, 10: 8384-8390

8. Wei Xiong, QunGuo, Zheng Guo, Hao Li, Ran Zhao,   Qiang Chen, Zhongwei Liu*, Xinwei Wang*, Atomic Layer Deposition of Nickel   Carbide for Supercapacitors and ElectrocatalyticHydrogen Evolution, Journal   of Materials Chemistry A, 2018, 6: 4297-4304

专利、软著

1.一种解析电喷雾电离装置 刘忠伟 王正铎 杨丽珍，2022.06.21授权

2.一种碳化钴薄膜及其制备方法 王新炜，刘忠伟，陈强，樊启鹏，国政，专利号 ZL   201811517932.8

3.一种高效组合式大气压电离源，杨丽珍，刘忠伟，郭群，王卫国，专利号ZL   201610855957.3,

4.采用等离子体射流制备高阻隔薄膜的方法，刘忠伟, 陈强, 赵高, 原建松, 曹庆波，申请号CN201410140035.5

教学活动

本科生课程：

1.材料科学与工程基础（双语）；

2.功能薄膜材料及技术（双语）；

研究生课程：

等离子体技术及应用